高真空方法 ：
真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。
(1)真空蒸發鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發鍍，簡稱真空鍍或蒸發鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發源蒸出的粒子，經過輝光放電區部分電離，通過擴散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學氣相鍍 在低壓下，利用氣態物質在固態表面上進行化學反應生成與基體結合良好的固體沉積層的過程稱為化學氣相鍍（有時也有常壓下進行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質的過程稱為離子注入，如注硼等。
電泳及靜電噴涂
1、電泳
工件作為一個電極放入導電的水溶性或水乳化的涂料中，與涂料中另一電極構成解電路。在電場作用下，涂料溶液中已離解成帶電的樹脂離子，陽離子向陰極移動，陰離子向陽極移動。這些帶電荷的樹脂離子，連同被吸附的顏料粒子一起電泳到工件表面，形成涂層，這一過程稱為電泳。
2、靜電噴涂
在直流高電壓電場作用，霧化的帶負電的油漆粒子定向飛往接正電的工件上，從而獲得漆膜的過程，稱為靜噴涂。
金屬表面處理主要體現在兩個方面。一方面是表面保護，它使用各種保護方法來防止金屬腐蝕。常用的表面保護方法包括表面涂層和表面轉化涂層技術。另一種是金屬表面改性，也稱為表面優化，是借助離子束、激光、等離子體等新技術手段，改變材料表面和表面附近的成分、結構和性能，從而獲得傳統冶金和表面處理技術無法獲得的新的分層材料。
這種類型處理的主要目的就是使傳統材料具有更好的性能?，F代先進的表面改性技術主要有物相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、等離子體化學氣相沉積(PCVD)、離子注入和離子束沉積。
表面淬火不是金屬表面處理，而是金屬表面的一種熱處理過程。這種類型的表面處理以增強金屬的強化方法或耐腐蝕性等，因為該表面處理方法很多，其中有些涉及一些物理變化，有些涉及化學變化，如電鍍，它們的表面處理有不同的用途。
總的來說，金屬表面處理帶來的效果還是不錯的，如有需要，可以直接聯系我們!
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